真空电镀-新威-真空电镀厂

一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：

(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料.

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜.

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物.

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚.

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜.

(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排.

(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，真空电镀机，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜.

(8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜.

(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产.(10)靶材可制作成各种形状，真空电镀厂家，配合机台的特殊设计做更好的控制及有效率的生产.

电镀前的注意事项：

　　电镀之前要先将镀件的表面进行机械抛光。在作为预处理的机械抛光法中，真空电镀，用的***广的是：为得到平滑面的跑轮抛光、皮带抛光；对小工件用滚筒抛光；还有能形成无光面的钢丝刷法、液体珩磨法等。

　　若抛光所用的油脂附着在镀件上，则对电镀特别***，电镀前必须进行脱脂处理。

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真空电镀的特点：只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰﹒

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